WS 76-2020醫(yī)用X射線診斷設(shè)備質(zhì)量控制檢測規(guī)范，英文名：Specification for testing of quality control in medical X-ray diagnostic equipment，標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了醫(yī)用X射線診斷設(shè)備質(zhì)量控制檢測和防護性能檢測的一般要求、檢測項目、檢測方法及其技術(shù)要求。
WS 76-2020醫(yī)用X射線診斷設(shè)備質(zhì)量控制檢測規(guī)范適用于醫(yī)用X射線診斷設(shè)備的質(zhì)量控制檢測和防護性能檢測，包括X射線攝影設(shè)備[含X射線屏片攝影設(shè)備、數(shù)字X射線攝影（DR）設(shè)備、計算機X射線攝影（CR）設(shè)備]、X射線透視設(shè)備（含直接熒光屏透視設(shè)備、影像增強器透視、平板透視設(shè)備）、牙科X射線設(shè)備（含口內(nèi)機和口外機）、數(shù)字減影血管造影（DSA）X射線設(shè)備、乳腺X射線攝影設(shè)備[含乳腺X射線屏片攝影設(shè)備（乳腺屏片）、乳腺數(shù)字X射線攝影（乳腺DR）設(shè)備、乳腺計算機X射線攝影（乳腺CR）設(shè)備]。
其中移動式X射線設(shè)備、便攜式X射線設(shè)備、車載式X射線設(shè)備、碎石機和醫(yī)用常規(guī)X射線模擬定位設(shè)備可參照使用。
WS 76-2020醫(yī)用X射線診斷設(shè)備質(zhì)量控制檢測規(guī)范不適用于X射線計算機體層攝影（CT）裝置和錐形束CT的質(zhì)量控制檢測。
WS 76-2020醫(yī)用X射線診斷設(shè)備質(zhì)量控制檢測規(guī)范替代了WS 76-2017;WS 518-2017;WS 520-2017;WS 521-2017;WS 522-2017;WS 530-2017;WS 581-2017等標(biāo)準(zhǔn)，現(xiàn)由中國疾病預(yù)防控制中心輻射防護與核安全醫(yī)學(xué)所、北京市疾病預(yù)防控制中心、江蘇省疾病預(yù)防控制中心、中國醫(yī)學(xué)科學(xué)院放射醫(yī)學(xué)研究所、首都醫(yī)科大學(xué)附屬北京同仁醫(yī)院、福建省職業(yè)病與化學(xué)中毒預(yù)防控制中心、江西省職業(yè)病防治研究院、北京大學(xué)口腔醫(yī)院起草并修改。
WS 76-2020規(guī)范在2020-10-26由國家衛(wèi)生健康委員會發(fā)布，并于2021-05-01開始實施執(zhí)行。
前言
本標(biāo)準(zhǔn) 3.1～3.9、3.10.1～3.10.8、3.10.10～3.10.14 是強制性條款，其余是推薦性條款。
本標(biāo)準(zhǔn)按照 GB/T 1.1-2009 給出的規(guī)則起草。
本標(biāo)準(zhǔn)代替 WS 76-2017《醫(yī)用常規(guī) X 射線診斷設(shè)備質(zhì)量控制檢測規(guī)范》、WS 518-2017《乳腺 X射線屏片攝影系統(tǒng)質(zhì)量控制檢測規(guī)范》、WS 520-2017《計算機 X 射線攝影（CR）質(zhì)量控制檢測規(guī)范》、WS 521-2017《醫(yī)用數(shù)字 X 射線攝影（DR）系統(tǒng)質(zhì)量控制檢測規(guī)范》、WS 522-2017《乳腺數(shù)字 X 射線攝影系統(tǒng)質(zhì)量控制檢測規(guī)范》、WS 530-2017《乳腺計算機 X 射線攝影系統(tǒng)質(zhì)量控制檢測規(guī)范》和 WS 581-2017《牙科 X 射線設(shè)備質(zhì)量控制檢測規(guī)范》。與上述標(biāo)準(zhǔn)相比，除編輯性修改外主要技術(shù)變化如下：
--修改了透視X射線設(shè)備中低對比度分辨力的判定要求（見4.4，WS 76-2017的7.5）；
--增加了透視防護區(qū)檢測平面上周圍劑量當(dāng)量率檢測（見4.7和附錄I）；
--刪除了X射線透視設(shè)備中的照射野與影像接收器中心偏差項目的檢測要求（見WS 76-2017的7.8）；
--刪除了X射線攝影設(shè)備中的輸出量線性項目的狀態(tài)檢測要求（見WS 76-2017的6.3）；
--刪除了X射線攝影設(shè)備中的光野與照射野中心的偏離項目的檢測要求（見WS 76-2017的6.8）；
--修改了數(shù)字X射線攝影設(shè)備中殘影的檢測方法（見9.5，WS 521-2017的6.6）；
--刪除了數(shù)字X射線攝影設(shè)備中的自動曝光控制（AEC）靈敏度項目的檢測要求（見WS 521-2017的6.10.1）；
--刪除了數(shù)字X射線攝影設(shè)備中的AEC管電壓變化一致性項目的檢測要求（見WS 521-2017的6.10.3）；
--刪除了數(shù)字X射線攝影設(shè)備中的暗噪聲項目的檢測要求（見WS 521-2017的6.1）；
--增加了DSA設(shè)備的質(zhì)量控制檢測項目與方法（見第6章）；
--增加了醫(yī)用X射線診斷設(shè)備檢測項目對照表（見表A.1）；
--修改了透視受檢者入射體表空氣比釋動能率最大值要求（見表B.1，WS 76-2017的表B.1）；，
--增加了高劑量率模式時透視受檢者入射體表空氣比釋動能率最大值要求（見表B.1）；
--增加了平板探測器高對比度分辨力要求（見表B.2）；
--修改了平板探測器最大入射屏前空氣比釋動能率要求（見表B.4，WS 76-2017的表B.3）；
--完善了乳腺X射線攝影中不同靶/濾過組合的半值層要求（見表F.2）；
--增加了DSA設(shè)備質(zhì)量控制檢測模體示例（見附錄L）；
--增加了乳腺X射線攝影設(shè)備低對比度分辨力檢測模體示例（見附錄O）。
WS 76-2017的歷次版本發(fā)布情況為：
--WS/T 76-1996、WS 76-2011；
--WS/T 189-1999
WS 518-2017的歷次版本發(fā)布情況為：GBZ186-2007
WS 520-2017的歷次版本發(fā)布情況為：GBZ187-2007
